Aln Ceramic Chucks는 열 안정성, 정밀도 및 화학 저항이 필요한 고성능 환경에서 뛰어납니다.
주요 응용 프로그램에는 다음이 포함됩니다.
반도체 제조
EUV 리소그래피 : 최소 열 드리프트로 나노 미터의 오버레이 정확도를 보장합니다.
에칭\/증착 도구 : 반응성 이온 에칭 (RIE) 및 CVD 챔버에서 혈장 침식에 저항합니다.
웨이퍼 어닐링 : 고급 노드 제조를 위해 800–1000도에서 균일 한 가열 (± 0. 5도)을 유지합니다.
전력 전자 장치
SIC\/GAN 에피 택시 : 고효율 장치 생산을위한 MOCVD 반응기의 1100도를 견딜 수 있습니다.
레이저 다이 싱 : 초박형 웨이퍼에 안정적인 클램핑을 제공합니다.<50μm) without cracking.
고급 포장
3D IC 결합 : 칩 렛의 열 압축 결합 중에 warpage를 방지합니다.
팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키징 (FOWLP) : 이기종 통합을위한 정확한 정렬을 가능하게합니다.
연구 및 산업
양자 컴퓨팅 : 큐 비트 테스트를위한 극저온-높은 온도 안정성을 제공합니다.
LED 생산 : 미니\/마이크로 롤 트랜스퍼의 균일 한 열 관리를 지원합니다.
Aln Chucks는 요구하는 프로세스에 없어서는 안됩니다<0.1μm flatness, zero contamination, and long-term reliability, directly boosting yield in cutting-edge tech.
고품질 알루미늄 질화물 세라믹 척이 필요한 경우 추가 질문은 우수한 세라믹 시간에 문의하십시오.
