ZERODUR 가공 가능한 유리 세라믹

ZERODUR 가공 가능한 유리 세라믹

제품 설명 ZERODUR는 고성능-유리-세라믹으로 열팽창계수(CTE)가 0에 가깝고 넓은 온도 범위에서 탁월한 치수 안정성을 제공하는 가장 두드러진 특징으로 알려져 있습니다. 이름에는 "세라믹"이 포함되어 있지만...
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제품 설명

 

ZERODUR는 열팽창 계수(CTE)가 0에 가깝고 넓은 온도 범위에서 뛰어난 치수 안정성을 제공하는 가장 두드러진 특징으로 잘 알려진 고성능-유리-세라믹입니다. 이름에는 "세라믹"이 포함되어 있지만 기술적으로는 특수한 열처리(세라믹화)를 거쳐 구조 내에 균일하게 분포된 나노-결정을 형성하여 독특한 물리적 특성을 부여하는 유리입니다. "가공 가능"이라는 용어는 최종 세라믹화 전의 "그린" 상태에서 기존의 유리 가공 기술(예: 절단, 드릴링, 연삭)을 사용하여 상대적으로 쉽게 성형할 수 있다는 사실을 의미합니다. 이후 이 열처리를 통해 최종 0-팽창 상태로 변형됩니다.

ZERODUR lithium-aluminum silicate microcrystalline glass

주요 성능 특성

 

  • 극도의 열 안정성 및 제로에 가까운{0}}팽창: 평균 열팽창 계수는 실온 주변의 넓은 온도 범위에서 0에 가깝습니다. 이는 환경 온도 변화로 인해 재료의 치수 변화가 거의 발생하지 않는다는 것을 의미하며, 이는 고정밀 플랫폼 및 광학 부품용 기판으로서의 핵심 장점입니다.-
  • 탁월한 구조적 균질성 및 등방성: 재료의 내부 구조는 균일하고 물리적 특성(예: 팽창 계수, 영률)은 모든 방향에서 일관되므로 방향 차이로 인한 변형이나 응력 문제를 방지합니다.
  • 높은 경도 및 내마모성: 높은 표면 경도, 우수한 내마모성 및 긁힘 방지 기능을 갖추고 있어 장기적인-표면 정밀도가 요구되는 용도에 적합합니다.
  • 우수한 화학적 안정성: 물, 산, 알칼리 및 유기용제에 대한 저항성이 우수하여 다양한 환경에 적합합니다.
  • 진공 호환성: 이 재료는 비-공성, 비-흡습성이며 가스 방출 속도가 매우 낮아 고진공 및 초고진공 환경의 요구 사항을 완벽하게 충족합니다.-
  • 가공성: 최종 세라믹화 전의 "녹색 유리" 상태에서는 가공이 가능합니다. 완전 세라믹화 후에도 매우 단단하기는 하지만 광학 표면 품질을 얻기 위해 다이아몬드 도구를 사용하여 초정밀 연삭 및 광택 처리를 할 수 있습니다.

 

주요 성능 매개변수(일반적인 값)

 

  • 열팽창 계수(CTE, 0도 ~ 50도): ≒ 0 ± 0.10 x 10⁻⁶ /K(다양한 정확도 등급을 사용할 수 있습니다(예: "클래스 0", "클래스 1", "클래스 2", 다양한 범위)).
  • 밀도: 약 2.53g/cm3.
  • 영률: 약 90.3GPa.
  • 푸아송비: 약 0.24.
  • 열전도율(20도): 약 1.46W/(m·K).
  • 비열 용량(20도): 약 0.80J/(g·K).
  • 최대 작동 온도(장기-}): 약 500도.
  • 투명도: 불투명하며 일반적으로 흰색 또는 밝은 색상입니다.

 

주요 애플리케이션

 

비교할 수 없는 치수 안정성과 포괄적인 물리적 특성을 기반으로 하는 ZERODUR는 열 변형 저항 및 장기 안정성에 대한 요구 사항이 매우 까다로운 분야에서 널리 사용됩니다.-

  • 고급-광학 및 천문학:

대형 천문 망원경용 미러 블랭크: 전 세계 주요 지상- 기반 망원경 및 우주 망원경(예: 초대형 망원경 VLT, 대형 시놉틱 측량 망원경 LSST)의 주 및 부 거울에 선택되는 재료입니다.

리소그래피 기계용 광학 시스템: EUV(극자외선) 리소그래피 스캐너와 같은 핵심 반도체 제조 장비의 반사 기판에 사용됩니다.

고정밀 반사경 및 평면 거울:-레이저 간섭계, 지구 위성 관측 시스템, 우주 망원경에 사용됩니다.

  • 정밀 측정 및 계측:

기준 스케일 및 에탈론: 길이 및 각도 측정을 위한 매우 안정적인 물리적 표준 역할을 합니다.

레이저 자이로스코프용 광학 공동: 고정밀-관성 항법 시스템을 위한 안정적인 공진 공동을 제공합니다.

간섭계 플랫폼 및 베이스: 중력파 감지기(예: LIGO) 및 나노-규모 표면 지형 측정 시스템과 같은 초정밀 측정 장비에 사용됩니다.

  • 반도체 제조 및 검사 장비:

웨이퍼 스테이지 및 레티클 스테이지: 리소그래피 및 검사 장비에서 실리콘 웨이퍼 또는 레티클을 운반하며 나노미터{0}}수준의 열 안정성과 평탄도가 필요합니다.

정밀 모션 플랫폼용 베이스: 해당 장비의 정밀 포지셔닝 시스템을 위한 견고하고 안정적인 기반을 제공합니다.

  • 항공우주 및 과학 연구:

위성 구조 구성 요소 및 광학 지지 구조: 급격하게 변화하는 우주 온도 환경에서 모양과 크기를 유지합니다.

고-에너지 물리학 실험 장치: 입자 탐지기용 지지 구조 또는 반사판 등.

 

품질 관리

 

ISO 9001 품질 관리 시스템을 엄격히 준수하면서 우리는 고품질의 제품을 일관되게 제공하기 위해 전체-프로세스 품질 관리를 구현합니다.-

• 원재료를 100% 검사하여 원산지로부터 품질을 보장합니다.
• 안정적이고 신뢰할 수 있는 프로세스를 위한 고급 열간 압착 생산 라인 활용{0}}
• 밀도, 경도 및 미세 구조 분석을 포괄하는 포괄적인{0}}내부 테스트 시스템
• 제3자{0}}공인 인증(요청 시 제공되는 SGS, CE, ROHS 등 포함)의 가용성

우리는 관리 시스템을 지속적으로 개선하여 고객에게 일관되고 신뢰할 수 있는 제품 보증을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다.

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