챔버 인서트

제품 설명

최첨단 반도체 제조 분야에서{0}}알루미나 세라믹 챔버 인서트는 중요한 공정 챔버의 라이닝 및 코어 소모품 역할을 합니다. 탁월한 재료 특성을 통해 칩 에칭, 박막 증착(CVD/PVD) 및 이온 주입과 같은 핵심 프로세스에 안정적이고 순수하며 내구성이 있는 반응 환경을 제공합니다. 성능은 공정 정밀도, 생산 수율 및 장비 운영 비용에 직접적인 영향을 미칩니다.

제품 성능

• 탁월한 플라즈마 부식 저항성: 에칭 및 CVD 공정 중에 챔버는 고에너지, 고반응성 플라즈마(예: 불소- 또는 염소- 기반)로 채워집니다. 고-순도 알루미나 세라믹은 극도의 화학적 불활성을 나타내어 이러한 플라즈마의 충격과 화학적 침식에 효과적으로 저항합니다.
• 뛰어난 순도 및 낮은 오염도: 99.9% 알루미나 세라믹-및 99.99% 알루미나 세라믹-의 고순도는 고온 및 플라즈마 조건에서 금속 이온(예: Na, K, Fe) 또는 기타 불순물의 방출을 최소화합니다.-
• 탁월한 고온-안정성과 낮은 가스 배출율: 고온-내열성-알루미나 세라믹은 1600도에서 장기간-안정성을 유지합니다. 열 팽창 계수가 상대적으로 낮기 때문에 반복되는 열 순환 중에 변형이 최소화됩니다.
• 뛰어난 기계적 강도 및 강성: 세라믹임에도 불구하고-고순도 알루미나 세라믹은 탁월한 굽힘 강도와 경도(모스 경도 9, 다이아몬드 다음으로 두 번째)를 나타냅니다. 기계적 응력과 조립 하중을 견디며 챔버 구조적 무결성을 보장합니다.
• 우수한 절연 특성: 우수한 전기 절연체로서 금속 공동으로부터 플라즈마를 효과적으로 분리하여 플라즈마 형태 및 분포를 정밀하게 제어하는 ​​데 도움을 줍니다.
• 열 충격 저항: 최적화된 재료 배합과 미세 구조 제어를 통해 최신 알루미나 구조 세라믹은 향상된 열 충격 저항을 나타내므로 가공 중 급격한 온도 변동을 견딜 수 있고 균열 위험을 줄일 수 있습니다.

제품 적용

• 메인 챔버 보호: 공정 중에 생성된 반응 부산물(필름 재료 및 부산물 입자의 경우)이 비싸고 세척이 어려운-영구 챔버 벽과 중요 구성 요소에 직접 증착되는 것을 방지하여 메인 장비의 서비스 수명을 크게 연장하고 유지 관리 비용을 절감합니다.
• 공정 청결 유지: 오염 물질과 부산물을 포착하여 챔버 내 입자 발생원을 줄입니다. 인서트 표면이 지나치게 두꺼워지거나 심하게 오염된 경우 직접 교체하여 챔버 청결도를 신속하게 복원하고 제품 수율을 보호할 수 있습니다.
• 공정 성능 최적화: 특정 인서트(가스 분배 플레이트의 경우)가 공정에 직접 참여하여 챔버 내 반응 가스의 균일한 분배를 보장합니다. 이는 필름 증착이나 에칭의 균일성을 보장합니다.

품질 관리

인증서 및 명예

공장 강도

당사의 디지털 워크숍, 지능형 공장, 실시간{0}}데이터 수집 시스템은 린 제조 원칙을 활용하여 낭비를 최소화하고 리소스 효율성을 극대화합니다. CNC 가공 기술, 산업용 사물 인터넷(IIoT) 기술, 자동화 제어 시스템을 접목해 생산 장비 간 원활한 연결과 협업을 구현해 생산 비용 절감을 극대화합니다.